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日本OTSUKA大塚电子显微分光膜厚仪
日本OTSUKA大塚电子显微分光膜厚仪
OPTM-A1是日本大塚电子OPTM系列中的一款显微分光膜厚仪，专为微小区域薄膜的高精度测量而设计。基于光干涉法，它通过分析薄膜表面与基板界面反射光的光谱干涉，来测定膜厚、绝对反射率及光学常数（折射率n、消光系数k）。其核心优势在于，最小约3μm的微小光斑使其能对半导体晶圆、平板显示器像素点等微细结构进行非接触、非破坏性测量。同时，大塚电子的技术能有效去除透明基板的背面反射干扰，确保获得“真实"的反射率和膜厚数据。
核心参数表
项目规格详情
测量原理反射分光法（光干涉法）
波长范围230 nm ～ 800 nm（覆盖紫外至可见光）
膜厚测量范围1 nm ～ 35 μm（SiO₂等效值）
测量光斑Φ10 μm（最小可达约Φ3 μm）
单点测量时间1秒以内
测量项目多层膜厚（最多50层）、反射率、光学常数（n, k）
感光元件CCD（配合氘灯与卤素灯双光源）
样品台/尺寸/重量自动XY平台型 / 556(W)×566(D)×618(H) mm / 约66 kg
总结
OPTM-A1通过将宽光谱范围与显微光斑相结合，实现了对超薄膜（低至1nm）到厚膜（35μm）的微区精确分析。其“1秒/点"的快速测量与可定制的测量头，使其不仅能满足实验室的高精度科研需求，也便于集成到产线中进行在线质控。对于半导体、FPD、光学涂层等行业中对微小区域或透明基材上的薄膜分析而言，这是一款兼具高性能与高效率的实用工具。
中崎目前已获得NPM脉冲、FANUC发那科、日本SR，日本SAKAE思博，日本ENDO远藤、NITTO KOHKI日东工器，SUZUKI超声波切割机，GRAPHTEC图技，JST日压，AND爱安德，TRUSCO中山，ASONE亚速旺，TOA-DKK 东亚电波，ATAGO爱拓，HOZAN宝山，FUNATECH船越龙，VESSEL威威，HEIDON新东科学，HIOS好握速，SIBATA柴田科学，HORIBA堀场， ONOSOKKI小野，KETT凯特，日本CKD，日本妙德CONVUM，HAKKO白光，SSD西西蒂，MALCOM马康，MUSASHI武藏， AMADA米亚基，MECT麦特，Mitutoyo三丰，PISCO匹士克等多家品牌认证。
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