日本OTSUKA大塚电子膜厚量测仪
FE-300是日本大塚电子推出的一款基于反射分光法（光干涉法）的高性价比膜厚量测仪。它采用一体化紧凑机身设计，实现了非接触、非破坏的高精度膜厚测量。该设备的核心优势在于支持从薄膜到厚膜的宽范围测量（10nm~1.5mm），并通过波峰波谷法、FFT解析法、非线性最小二乘法等多种解析算法，可同时实现绝对反射率测量、10层膜厚解析及光学常数（n折射率、k消光系数）分

Name: 日本OTSUKA大塚电子膜厚量测仪FE-300V
Brand: OTSUKA/大塚电子
Price: 100878 CNY
Availability: InStock

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产品详情

日本OTSUKA大塚电子膜厚量测仪

产品介绍

FE-300是日本大塚电子推出的一款基于反射分光法（光干涉法）的高性价比膜厚量测仪。它采用一体化紧凑机身设计，实现了非接触、非破坏的高精度膜厚测量。该设备的核心优势在于支持从薄膜到厚膜的宽范围测量（10nm~1.5mm），并通过波峰波谷法、FFT解析法、非线性最小二乘法等多种解析算法，可同时实现绝对反射率测量、10层膜厚解析及光学常数（n折射率、k消光系数）分析。其操作界面简洁，测量时间最快仅需0.1秒，是半导体、光学薄膜及FPD等行业产线或实验室的高效质控工具。

核心参数表

项目FE-300V (标准型)FE-300UV (薄膜型)FE-300NIR (厚膜型)FE-300NIR (超厚膜型)

测量波长范围450 ~ 780 nm300 ~ 800 nm900 ~ 1600 nm1470 ~ 1600 nm

膜厚范围100 nm ~ 40 μm10 nm ~ 20 μm3 μm ~ 300 μm15 μm ~ 1.5 mm

样品尺寸\multicolumn{c}{最大8英寸晶圆（厚度5 mm）}

测量精度±0.2 nm以内±0.2 nm以内——

重复精度0.1 nm以内0.1 nm以内——

光斑直径\multicolumn{c}{约φ3 mm}

测量时间\multicolumn{c}{0.1 s ~ 10 s}

光源卤素灯氘灯+卤素灯卤素灯卤素灯

尺寸/重量\multicolumn{c}{280(W) × 570(D) × 350(H) mm / 约24 kg}

软件功能\multicolumn{c}

总结

FE-300以经济型定位实现了宽光谱覆盖与灵活配置，通过V/UV/NIR三种光学系统选型，可适配从超薄功能膜到毫米级厚膜的不同测量需求。它在确保高精度（重复精度0.1nm）的同时，保持了操作简便与数据稳定的特点，并且完整继承了机种FE-3000的90%核心功能。对于需要在半导体光刻胶、ITO导电膜或硬涂层等领域进行快速、无损、非接触式厚度及光学常数分析的用户而言，这是一款兼具高性能与高性价比的实用测量系统。

日本OTSUKA大塚电子膜厚量测仪

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