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日本OTSUKA大塚电子椭偏仪
日本OTSUKA大塚电子椭偏仪
FE-5000是日本大塚电子推出的光谱椭偏仪，专为纳米级多层薄膜的高精度分析而设计。该设备基于椭偏光学原理，通过测量线性偏振光在样品表面反射后偏振态的变化（椭圆参数tanψ和cosΔ），实现对薄膜厚度、光学常数（折射率n、消光系数k）的精确解析。
FE-5000系列包含标准型FE-5000与紧凑型FE-5000S两个子型号。FE-5000覆盖250-800nm宽光谱范围，搭载自动角度调节机构（45-90°可变）与自动XY样品台，适用于大尺寸样品（200×200mm）及产线自动化集成。FE-5000S则采用紧凑设计（约50kg），光谱范围为300-800nm，适合实验室等空间有限场景。
核心参数表
项目FE-5000FE-5000S
测量波长范围250 ~ 800 nm300 ~ 800 nm
样品尺寸最大200×200mm最大100×100mm
膜厚范围(nd)≥0.1 nm≥0.1 nm
入射/反射角范围45 ~ 90°（自动正弦杆驱动）45 ~ 90°（自动正弦杆驱动）
光斑直径约φ1.2 mm（可选微小光斑）约φ2.0 mm
tanψ/cosΔ精度< ±0.01< ±0.01
厚度重复性< 0.01%（标准SiO₂膜100nm）< 0.01%（标准SiO₂膜100nm）
检测器/光源多色仪（PDA/CCD）/高稳定性氙灯多色仪（PDA/CCD）/高稳定性氙灯
平台驱动方式手动/自动手动
装载机兼容可不可
尺寸/重量1300×900×1750mm / 约350kg650×400×560mm / 约50kg
软件分析功能最小二乘薄膜分析（Cauchy模型、nk-Cauchy模型）、理论方程分析（体表面nk分析、角度依赖同步分析）同左
总结
FE-5000系列以宽光谱覆盖、高角度灵活性和高精度解析为核心定位，实现了从紫外到可见光区的椭偏参数快速测量（400ch多通道光谱）。通过自动角度调节机构与多层拟合分析，可对半导体晶圆、FPD、光学薄膜及新材料等领域的多层膜结构进行非接触、非破坏的膜厚与光学常数评价。子型号FE-5000S在保留核心功能的同时显著降低了空间与成本门槛，为该设备的应用场景提供了灵活选择。
中崎目前已获得NPM脉冲、FANUC发那科、日本SR，日本SAKAE思博，日本ENDO远藤、NITTO KOHKI日东工器，SUZUKI超声波切割机，GRAPHTEC图技，JST日压，AND爱安德，TRUSCO中山，ASONE亚速旺，TOA-DKK 东亚电波，ATAGO爱拓，HOZAN宝山，FUNATECH船越龙，VESSEL威威，HEIDON新东科学，HIOS好握速，SIBATA柴田科学，HORIBA堀场， ONOSOKKI小野，KETT凯特，日本CKD，日本妙德CONVUM，HAKKO白光，SSD西西蒂，MALCOM马康，MUSASHI武藏， AMADA米亚基，MECT麦特，Mitutoyo三丰，PISCO匹士克等多家品牌认证。
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