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日本电子JEOL高纯度溅射银靶材
日本电子JEOL高纯度溅射银靶材
780176855 ,780108680 ,780116933 ,
介绍
日本电子(JEOL)780177347银靶材是一款专为扫描电镜(SEM)样品导电镀膜设计的高纯度溅射靶材,尤其适用于X射线能谱分析(EDS)等需要避免元素干扰的场景。采用99.99%高纯银(Ag)制造,适配JEOL JFC系列离子溅射仪(如JFC-1200/1300/1400/1600/2300HR等)。通过在非导电样品表面溅射沉积银薄膜,可有效消除电荷积聚,保障SEM成像质量。银靶材凭借其优异的导电性和相对经济的成本,在常规电镜制样中具有广泛的应用需求。以下为详细技术参数。
参数项目详细规格
品牌日本电子(JEOL)
零件编号780177347
材质银(Ag)
纯度99.99%(4N)
形状圆形薄片
直径φ49.5 mm
厚度0.1 mm
密度10.49~10.50 g/cm³(@20℃)
熔点961.78~961.93℃
沸点2212~2213℃
电阻率1.586×10⁻⁸ Ω·m(@20℃)
热导率约429 W/(m·K)
适用仪器JEOL JFC-1200/1300/1400/1600/2300HR等离子溅射仪
推荐溅射气体高纯氩气(≥99.999%)
典型溅射电流10~40 mA
典型工作真空度约5~10 Pa(依仪器设定)
存储条件干燥、避光、避酸碱、常温密封保存
包装方式专用防尘包装,单片装
产地日本
主要用途SEM不导电样品导电镀膜、EDS能谱分析前处理、电极薄膜制备
总结
JEOL 780177347银靶材以99.99%高纯银为原料,采用φ49.5×0.1 mm的精密尺寸规格,是JEOL离子溅射仪系统的常用配套耗材。其核心优势在于为扫描电镜观察提供高效、经济的导电镀膜解决方案——通过在非导电样品表面溅射沉积银薄膜,有效消除荷电效应,保障成像清晰度。相比金靶和铂靶,银靶在保持良好导电性的同时具有成本优势,尤其适合对元素分析无特殊干扰要求的常规电镜制样场景,是电子显微分析实验室中应用广泛的耗材之一。

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