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中崎供货!日本电子JEOL高纯度溅射钯靶材
中崎供货!日本电子JEOL高纯度溅射钯靶材
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日本电子(JEOL)780132556钯靶材是一款专为扫描电镜(SEM)样品导电镀膜设计的高纯度溅射靶材。采用99.95%高纯钯(Pd)制造,适用于JEOL JFC系列离子溅射仪(如JFC-1200/1300/1400/1600/2300HR等)及JEC-3000FC自动精细镀膜仪。钯靶材溅射沉积的薄膜晶粒细小、附着力强,特别适用于场发射扫描电镜(FE-SEM)等高分辨成像需求。钯具有良好的耐腐蚀性和化学稳定性,在能谱(EDS)分析中对常见元素谱峰干扰较少。以下为详细技术参数。
参数项目详细规格
品牌日本电子(JEOL)
零件编号780132556
材质钯(Pd)
纯度99.95%(3N5)
形状圆形薄片
直径φ46.2 mm
厚度0.1 mm
层数/结构2层结构(0.1×2)
密度12.02 g/cm³(@20℃)
熔点1554.9℃
沸点2963℃
热导率71.8 W/(m·K)
电阻率1.054×10⁻⁷ Ω·m(@20℃)
适用仪器JEOL JFC系列离子溅射仪(JFC-1200/1300/1400/1600/2300HR等)及JEC-3000FC自动精细镀膜仪
推荐溅射气体高纯氩气(≥99.999%)
典型溅射电流10~40 mA
工作真空度约5~10 Pa
膜厚均匀性≤±10%(直径范围内)
存储条件干燥、避酸碱、常温密封保存
包装方式专用防尘包装,单片装
产地日本
主要用途FE-SEM高分辨成像导电镀膜、不导电样品荷电消除、EDS/EBSP分析前处理
总结
JEOL 780132556钯靶材以99.95%高纯钯为原料,采用φ46.2×0.1×2的精密尺寸规格(双层结构设计),是JEOL离子溅射仪系统的高性能配套耗材。其核心优势在于为场发射扫描电镜等超高分辨观察提供晶粒细小、附着力强的导电镀膜层,有效消除非导电样品的荷电效应,保障纳米级成像的清晰度与准确性。钯靶材在耐腐蚀性和化学稳定性方面表现出色,对EDS分析中常见元素谱峰干扰较少,是从事高分辨电子显微分析实验室的重要耗材之一。

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