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日本OTSUKA大塚电子相位差测量装置 RETS-100nx是日本大塚电子推出的新一代相位差（光学延迟量）测量装置，专为OLED圆偏光片、叠层补偿膜、IPS液晶用带补偿偏光片等各类光学功能薄膜的高精度检测而设计。该设备基于偏光光学系统与多通道光谱检测技术，核心优势在于其极宽的相位差测量范围（0~60,000nm）和非破坏性多层测量能力，无需剥离样品即可对贴合膜进行原位分析。
更新时间：2026-07-09
型号：RETS-100nx New
厂商性质：经销商
浏览量：18
日本OTSUKA大塚电子膜厚量测仪 FE-300是日本大塚电子推出的一款基于反射分光法（光干涉法） 的高性价比膜厚量测仪。它采用一体化紧凑机身设计，实现了非接触、非破坏的高精度膜厚测量。该设备的核心优势在于支持从薄膜到厚膜的宽范围测量（10nm~1.5mm），并通过波峰波谷法、FFT解析法、非线性最小二乘法等多种解析算法，可同时实现绝对反射率测量、10层膜厚解析及光学常数（n折射率、k消光系数）分
更新时间：2026-07-09型号：FE-300V厂商性质：经销商浏览量：17
日本OTSUKA大塚电子分光干涉式晶圆膜厚仪 SF-3/200是日本大塚电子（OTSUKA）SF-3系列晶圆膜厚仪中的一个子型号，专为半导体晶圆及厚膜的高速、在线厚度监控而设计。它基于分光干涉法，实现了非接触、非破坏性的测量，其核心定位在于研磨与减薄制程的实时监控。该型号针对硅晶圆提供了6至400μm的测量范围，并支持最多5层膜厚的分析。
更新时间：2026-07-09型号：SF-3/300厂商性质：经销商浏览量：21
日本OTSUKA大塚电子显微分光膜厚仪 OPTM-A1是日本大塚电子OPTM系列中的一款显微分光膜厚仪，专为微小区域薄膜的高精度测量而设计。基于光干涉法，它通过分析薄膜表面与基板界面反射光的光谱干涉，来测定膜厚、绝对反射率及光学常数（折射率n、消光系数k）。其核心优势在于，最小约3μm的微小光斑使其能对半导体晶圆、平板显示器像素点等微细结构进行非接触、非破坏性测量。
更新时间：2026-07-09型号：OPTM-A2厂商性质：经销商浏览量：22
日本OTSUKA大塚电子Smart膜厚仪 SM-110SO属于大塚电子Smart膜厚仪系列，是一款基于反射分光法（光干涉法）、可携带至现场的手持式膜厚测量系统。它的核心优势在于将高精度光学测量能力集成于约1.1kg的手持设备中，实现了非破坏性、快速且不受基材材质限制的膜厚测量。
更新时间：2026-07-09型号：SM-110PO厂商性质：经销商浏览量：21
日本OTSUKA大塚电子动态光散乱法测量粒径 nanoSAQLA是日本大塚电子推出的一款基于动态光散射法（DLS法） 的多样品纳米粒径测量系统。其核心定位是高通量与高效率，无需自动取样器即可实现最多5个样品的连续测量，突破了传统单样品池效率低下的瓶颈。该设备覆盖从0.6nm至10μm的宽粒径范围，并支持从稀薄溶液（0.00001%）到高浓度（40%）样品的直接测量。
更新时间：2026-07-09型号：nanoSAQLA厂商性质：经销商浏览量：19
日本OTSUKA大塚电子ZETA电位仪器 ELSZneo是日本大塚电子（OTSUKA）ELSZ系列中的旗舰机型，集ZETA电位、粒径与分子量测量于一体。作为系列型号，它在继承宽浓度范围（稀溶液至40%浓厚溶液）测量优势的基础上，引入了多角度测量功能以提升粒径分布的分离分辨率。设备通过实测样品池内的电渗流图谱并进行修正，确保了ZETA电位数据的高精度与高可靠性
更新时间：2026-07-09型号：ELSZneo厂商性质：经销商浏览量：15
日本OTSUKA大塚电子ZETA电位仪器 日本大塚电子（OTSUKA）ELSZ-2000ZS是一款集ZETA电位、粒径与分子量测量于一体的综合物性评价系统。该设备基于动态光散射法测量粒径，电泳光散射法（激光多普勒法）测定ZETA电位，并采用静态光散射法分析分子量。其核心优势在于覆盖了从0.00001%（0.1ppm）稀薄溶液到40%浓厚溶液的超宽浓度范围，即使对于浑浊或不透光的高浓度样品也无需稀释
更新时间：2026-07-09型号：ELSZ-2000ZS厂商性质：经销商浏览量：18
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