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  • SF-3/300日本OTSUKA大塚电子分光干涉式晶圆膜厚仪

    日本OTSUKA大塚电子分光干涉式晶圆膜厚仪 SF-3/200是日本大塚电子(OTSUKA)SF-3系列晶圆膜厚仪中的一个子型号,专为半导体晶圆及厚膜的高速、在线厚度监控而设计。它基于分光干涉法,实现了非接触、非破坏性的测量,其核心定位在于研磨与减薄制程的实时监控。该型号针对硅晶圆提供了6至400μm的测量范围,并支持最多5层膜厚的分析。

    更新时间:2026-07-09
    型号:SF-3/300
    厂商性质:经销商
    浏览量:30
  • OPTM-A2日本OTSUKA大塚电子显微分光膜厚仪

    日本OTSUKA大塚电子显微分光膜厚仪 OPTM-A1是日本大塚电子OPTM系列中的一款显微分光膜厚仪,专为微小区域薄膜的高精度测量而设计。基于光干涉法,它通过分析薄膜表面与基板界面反射光的光谱干涉,来测定膜厚、绝对反射率及光学常数(折射率n、消光系数k)。其核心优势在于,最小约3μm的微小光斑使其能对半导体晶圆、平板显示器像素点等微细结构进行非接触、非破坏性测量。

    更新时间:2026-07-09
    型号:OPTM-A2
    厂商性质:经销商
    浏览量:36
  • SM-110PO日本OTSUKA大塚电子Smart膜厚仪

    日本OTSUKA大塚电子Smart膜厚仪 SM-110SO属于大塚电子Smart膜厚仪系列,是一款基于反射分光法(光干涉法)、可携带至现场的手持式膜厚测量系统。它的核心优势在于将高精度光学测量能力集成于约1.1kg的手持设备中,实现了非破坏性、快速且不受基材材质限制的膜厚测量。

    更新时间:2026-07-09
    型号:SM-110PO
    厂商性质:经销商
    浏览量:37
  • nanoSAQLA日本OTSUKA大塚电子动态光散乱法测量粒径

    日本OTSUKA大塚电子动态光散乱法测量粒径 nanoSAQLA是日本大塚电子推出的一款基于动态光散射法(DLS法) 的多样品纳米粒径测量系统。其核心定位是高通量与高效率,无需自动取样器即可实现最多5个样品的连续测量,突破了传统单样品池效率低下的瓶颈。该设备覆盖从0.6nm至10μm的宽粒径范围,并支持从稀薄溶液(0.00001%)到高浓度(40%)样品的直接测量。

    更新时间:2026-07-09
    型号:nanoSAQLA
    厂商性质:经销商
    浏览量:35
  • ELSZneo日本OTSUKA大塚电子ZETA电位仪器

    日本OTSUKA大塚电子ZETA电位仪器 ELSZneo是日本大塚电子(OTSUKA)ELSZ系列中的旗舰机型,集ZETA电位、粒径与分子量测量于一体。作为系列型号,它在继承宽浓度范围(稀溶液至40%浓厚溶液)测量优势的基础上,引入了多角度测量功能以提升粒径分布的分离分辨率。设备通过实测样品池内的电渗流图谱并进行修正,确保了ZETA电位数据的高精度与高可靠性

    更新时间:2026-07-09
    型号:ELSZneo
    厂商性质:经销商
    浏览量:27
  • ELSZ-2000ZS日本OTSUKA大塚电子ZETA电位仪器

    日本OTSUKA大塚电子ZETA电位仪器 日本大塚电子(OTSUKA)ELSZ-2000ZS是一款集ZETA电位、粒径与分子量测量于一体的综合物性评价系统。该设备基于动态光散射法测量粒径,电泳光散射法(激光多普勒法)测定ZETA电位,并采用静态光散射法分析分子量。其核心优势在于覆盖了从0.00001%(0.1ppm)稀薄溶液到40%浓厚溶液的超宽浓度范围,即使对于浑浊或不透光的高浓度样品也无需稀释

    更新时间:2026-07-09
    型号:ELSZ-2000ZS
    厂商性质:经销商
    浏览量:35
  • 3AC-P201日本DIC eFLOW柜式安装型超纯水防静电装置

    日本DIC eFLOW柜式安装型超纯水防静电装置 3AC-P201 凭借双模块配置和一体式机柜设计,将处理能力提升至 50 L/min 的同时,简化了现场安装与管路连接。该型号适用于半导体、液晶面板等行业中需要大流量超纯水防静电的清洗、切割等工艺。选型时请根据产线实际流量需求(10–50 L/min)及安装空间进行确认。

    更新时间:2026-07-08
    型号:3AC-P201
    厂商性质:经销商
    浏览量:47
  • 1AC-P201日本DIC eFLOW柜式安装型超纯水防静电装置

    日本DIC eFLOW柜式安装型超纯水防静电装置 1AC-P201 凭借一体式机柜设计,将气源与控制系统整合,简化了现场安装与管路连接。该型号适用于半导体、液晶面板等行业中需要中小流量(1–16 L/min)超纯水防静电的清洗、切割等工艺。选型时请根据产线实际流量需求及安装空间进行确认。

    更新时间:2026-07-08
    型号:1AC-P201
    厂商性质:经销商
    浏览量:90
  • 2AP-B01日本DIC eFLOW面板安装型超纯水防静电装置

    日本DIC eFLOW面板安装型超纯水防静电装置 2AP-B01 通过双模块配置将处理流量提升至 30 L/min,同时保持了面板安装的紧凑性与高洁净规格的灵活性,适用于半导体、液晶面板等行业中需要更大流量超纯水防静电的清洗、切割等工艺。选型时请根据产线实际流量需求(5-30 L/min)及洁净等级要求进行确认。

    更新时间:2026-07-08
    型号:2AP-B01
    厂商性质:经销商
    浏览量:113
  • 1AP-B02日本DIC eFLOW面板安装型超纯水防静电装置

    日本DIC eFLOW面板安装型超纯水防静电装置 1AP-B02 是一款通过物理方式调节超纯水电阻率以实现防静电功能的专业化设备,其面板安装设计和高洁净规格精准对应了半导体、液晶面板等行业的严苛需求。选型时需根据实际产线的超纯水用量,确认 1-16 L/min 的流量范围是否满足工况。

    更新时间:2026-07-08
    型号:1AP-B02
    厂商性质:经销商
    浏览量:44
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